1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | mtc-m21c.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP3W34R/43L97H8 |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21c/2020/11.23.12.01 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2020:11.23.12.01.23 (UTC) simone |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21c/2020/11.23.12.01.23 |
Última Atualização dos Metadados | 2022:01.04.01.35.38 (UTC) administrator |
DOI | 10.1109/TPS.2020.3032119 |
ISSN | 0093-3813 |
Chave de Citação | UedaRYSALPR:2020:PITrSS |
Título | PIII treatment of SS samples using a current-controlled high-voltage pulser |
Ano | 2020 |
Mês | Nov. |
Data de Acesso | 21 maio 2024 |
Tipo de Trabalho | journal article |
Tipo Secundário | PRE PI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 2291 KiB |
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2. Contextualização | |
Autor | 1 Ueda, Mário 2 Rossi, José Osvaldo 3 Yamasaki, Fernanda Sayuri 4 Silva Júnior, Ataide Ribeiro 5 Araújo, Michel Felipe 6 Lepienski, Carlos Maurício 7 Pichon, Luc 8 Reuther, H. |
Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB 2 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5 |
ORCID | 1 2 0000-0002-1421-163X 3 0000-0002-7734-769X |
Grupo | 1 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 2 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 3 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR |
Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 4 Instituto Federal de São Paulo (IFSP) 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 6 Universidade federal do Paraná (UFPR) 7 University of Poitiers 8 Institute of Ion Beam Physics and Materials Research |
Endereço de e-Mail do Autor | 1 2 jose.rossi@inpe.br |
Revista | IEEE Transactions on Plasma Science |
Volume | 48 |
Número | 11 |
Páginas | 3800-3806 |
Nota Secundária | A1_ENGENHARIAS_IV B1_INTERDISCIPLINAR B1_ENGENHARIAS_III B1_ENGENHARIAS_II B3_MATERIAIS B3_ASTRONOMIA_/_FÍSICA |
Histórico (UTC) | 2020-11-23 12:01:23 :: simone -> administrator :: 2020-11-23 12:01:24 :: administrator -> simone :: 2020 2020-11-23 12:09:05 :: simone -> administrator :: 2020 2022-01-04 01:35:38 :: administrator -> simone :: 2020 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | Plasma applications plasma materialsprocessing applications pulse transformers pulsed power systems |
Resumo | Plasma immersion ion implantation (PIII) was conducted in a large volume chamber with a current-controlled highvoltage pulser, to test the vacuum, plasma, and PIII conditions, in a preparation for the treatments of large workpieces or the batch-processing mode. For that purpose, a rugged high-power pulser (10 kW average) based on solid-state moderate voltage pulse system (1 kV) was coupled to a high-voltage transformer (1:22) to feed different loaded sample supports placed in different positions inside the chamber. It was found that the plasma, when produced by a hot filament enhanced glow discharge source, is not uniformly distributed in the chamber but despite that, implantation doses are locally uniform within 10% for 1015-cm distances, along with the supports. Stainless steel 304 (SS304) -type samples were successfully treated with nitrogen PIII and different tests showed improvements on their mechanical and tribological properties. |
Área | FISPLASMA |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > PIII treatment of... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | |
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4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | en |
Arquivo Alvo | ueda_piii.pdf |
Grupo de Usuários | simone |
Grupo de Leitores | administrator simone |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher allowfinaldraft |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.52.24 22 sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 2 sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.56.06 1 |
Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore. |
Acervo Hospedeiro | urlib.net/www/2017/11.22.19.04 |
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6. Notas | |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | simone |
atualizar | |
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